Hochgeschwindigkeits-Luft-Wasser-Kühlsystem für präzise Wafer-Messungen
ARTS-HS-Ⅲ-WA: Flexible und effiziente Temperaturregelung für Wafer-Prober im Bereich von -55°C bis +200°C
Das ARTS-HS-Ⅲ-WA Kühlsystem bietet eine hochpräzise und stabile Temperaturregelung für Wafer-Prüfstationen (Wafer-Prober) im Temperaturbereich von -55°C bis +200°C. Mit der Fähigkeit, zwischen Luft- und Wassergekühltem Betrieb zu wechseln, passt sich das System optimal an Ihre Produktionsumgebung an und gewährleistet so präzise Wafer-Prüfungen und eine effiziente Energieversorgung.
Schlüsselfunktionen des ARTS-HS-Ⅲ-WA Kühlsystems:
- Hohe Geschwindigkeit und Präzision: Das System ermöglicht schnelle Temperaturänderungen und sorgt für eine stabile Messumgebung, um Wafer mit höchster Genauigkeit zu prüfen.
- Flexible Kühloptionen: Dank der Umstellmöglichkeit zwischen Luftkühlung und Wasserkühlung kann das System an verschiedene Umgebungsbedingungen und Anforderungen angepasst werden, ohne dass zusätzliche Kühlmittelquellen erforderlich sind.
- Energieeffizienz: Ausgestattet mit einem Inverter-gesteuerten Kühlmechanismus und der Kreislaufflüssigkeitsrückgewinnungsfunktion sorgt das System für eine optimierte Energieverbrauch und reduziert Betriebskosten.
Warum das ARTS-HS-Ⅲ-WA die ideale Wahl für Ihre Wafer-Prüfungen ist:
Das ARTS-HS-Ⅲ-WA Kühlsystem bietet nicht nur eine präzise und schnelle Temperaturregelung, sondern auch eine hohe Flexibilität und Energieeffizienz. Mit der Wahl zwischen Luft- und Wassergekühltem Betrieb ist es besonders anpassungsfähig an unterschiedliche Umgebungsanforderungen und stellt sicher, dass Ihre Wafer-Prüfungen unter den besten Bedingungen stattfinden.
Verlassen Sie sich auf ARTS-HS-III-WA, um Ihre Halbleiterproduktion auf die nächste Stufe der Präzision und Energieeffizienz zu heben.
