Präzise Temperaturregelung für schnelle Wafer-Tests von -55°C bis +200°C
ARTS-HS-II: Schnelle und präzise Temperaturregelung für Wafer-Prober – Optimierte Testumgebung für höchste Prüfqualität
Der ARTS-HS-II ist ein Hochgeschwindigkeits-Luftkühlsystem, das speziell für den Einsatz in Wafer-Probern entwickelt wurde. Mit seiner schnellen und exakten Temperaturregelung sorgt dieses Gerät für eine stabile Testumgebung, die die Qualität der Waferprüfungen in der Halbleiterfertigung maximiert.
Das ARTS-HS-II Kühlsystem ermöglicht eine präzise und schnelle Temperaturregelung für Wafer-Prober im Temperaturbereich von -55°C bis +200°C. Dies gewährleistet eine schnelle Anpassung der Testumgebung und sorgt gleichzeitig für eine stabile Temperaturkontrolle, die für die hochpräzise Wafer-Prüfung und Qualitätssicherung in der Halbleiterindustrie entscheidend ist.
Hauptmerkmale des ARTS-HS-II Hochgeschwindigkeits-Kühlsystems:
- Schnelle Temperaturregelung: Besonders geeignet für Wafer-Prober, die schnelle Temperaturanpassungen im Bereich von -55°C bis +200°C erfordern.
- Luftgekühltes System: Das System benötigt kein externes Kühlwasser, was die Installation vereinfacht und den Wartungsaufwand reduziert.
- Inverter-gesteuerte Kühltechnologie: Sorgt für eine energieeffiziente und präzise Temperaturregelung.<7li>
- Rückgewinnung des Kühlmittels: Effiziente Nutzung des Kühlmediums durch Kreislaufflüssigkeitsrückgewinnung.
- Luftspülsteuerung: Optimiert die Testumgebung und sorgt für stabile Bedingungen während des gesamten Prüfprozesses.
Technische Details:
- Temperaturbereich: -55°C bis +200°C (abhängig vom eingesetzten Wafer-Prober-Modell)
- Kühltechnologie: Inverter-gesteuerte Luftkühlung
- Kühlkreislaufsystem: Keine Notwendigkeit für externes Kühlwasser
- Wartungsfreundlichkeit: Geringer Wartungsaufwand dank des effizienten Kühlkreislaufsystems und der Luftspülsteuerung
Profitieren Sie von einer hochpräzisen, schnellen und umweltfreundlichen Kühlungslösung für Ihre Wafer-Prober.
