Effizientes Luftgekühltes Kühlsystem für Wafer-Prober
ARTS-HS-III: Perfekte Kontrolle der Temperatur bei Wafer-Prüfungen ohne die Notwendigkeit von externen Kühlquellen
Das ARTS-HS-III Kühlsystem bietet eine zuverlässige und konstante Temperaturregelung für Wafer-Prober. Mit einem breiten Temperaturbereich von -55°C bis +200°C ermöglicht es die präzise Steuerung der Chuck-Temperatur und schafft so ideale Bedingungen für hochgenaue Wafer-Prüfungen in der Halbleiterfertigung.
Dieses Luftgekühlte System kommt ohne externes Kühlwasser aus und vereinfacht dadurch die Installation und Wartung. Der Inverter-gesteuerte Kühlmechanismus sorgt für eine schnelle und energieeffiziente Temperaturregelung, die für anspruchsvolle Prüfprozesse erforderlich ist.
Schlüsselfunktionen des ARTS-HS-III Systems:
- Breiter Temperaturbereich: Bietet eine präzise Kontrolle der Chuck-Temperatur im Bereich von -55°C bis +200°C für stabilisierte Wafer-Tests.
- Luftgekühlte Technologie: Keine Notwendigkeit für externe Kühlmittel, was den Wartungsaufwand reduziert und die Flexibilität erhöht.
- Energieeffizienz: Dank der Inverter-gesteuerten Kühlung und Kreislaufflüssigkeitsrückgewinnung wird der Energieverbrauch optimiert.
- Luftspülsteuerung: Ermöglicht eine bessere Kontrolle der Luftbedingungen rund um den Wafer-Prober für präzisere Testergebnisse.
- Vielseitige Kompatibilität: Das System ist mit verschiedenen Wafer-Prober-Modellen kompatibel, sodass es an unterschiedliche Anforderungen in der Halbleiterproduktion angepasst werden kann.
Maximieren Sie die Effizienz Ihrer Wafer-Prüfungen mit dem ARTS-HS-III Kühlsystem
Nutzen Sie die Vorteile des ARTS-HS-III Systems, um die Qualität Ihrer Wafer-Prüfungen zu optimieren und gleichzeitig von einer einfacheren Wartung und einem geringeren Energieverbrauch zu profitieren.
Erfahren Sie mehr über dieses hochmoderne Luftgekühlte Kühlsystem und wie es Ihre Produktionsprozesse in der Halbleiterindustrie verbessern kann.
