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HRG300
Halbautomatischer High Rigid Grinder für Wafer bis 300mm
Für ultraharte Wafer-Materialien
Höchste Schleifgeschwindigkeit
In Prozess-Messung der Waferdicke
Automatische Dressing-Funktion
Höchste Schleifgeschwindigkeit
In Prozess-Messung der Waferdicke
Automatische Dressing-Funktion
- Ideal für die Bearbeitung einzelner Wafer mit 300 mm und das Batch Grinding für Wafer mit kleinerem Durchmesser
- Verfügbar auch für eine Vielzahl von Sonderanwendungen wie das MEMS-Wafer-Handling
- Hohe Stabilität – für kürzere Verarbeitungszeit, weniger Schleifschäden und eigenständige Self-Sharpening-Funktion
- Verlängert die Lebensdauer des Schleifsteins
- Mit In-Process Messinstrument, das auch für die stapelweise Wafer-bearbeitung geeignet ist und die Waferdicke während des Vorgangs misst
- Überprüft das Zusetzen (Clogging) des Schleifsteins und führt, wenn nötig, ein Abrichten (Dressing) durch
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